【インタビュー】背水ニコンの露光装置が"ASML互換"で勝負する必然――｢世界中の顧客から励ましの声を受けている｣､ASML独走に切り込む成算

ニコンはArF液浸をはじめとする旧来型の露光装置の拡充を進めている（写真：編集部撮影）

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ASML機と同じマスクを使える

――ASMLは最先端のEUV（極端紫外線）以外の露光装置でも高いシェアを握っています。ニコンは新型のArF液浸露光装置で「ASML機との互換性」を打ち出しました。

顧客の現場では、ASMLの装置用に作ったフォトマスク（半導体ウェハーに回路を転写するための原版）が大量にある。ところが、そのマスクをニコンの装置に持ってくると、レンズの設計思想の違いから、転写される回路パターンが「反転」してしまう。

顧客はマスクを共用できず、ニコン導入のために専用マスクを作らなければならない。これが最大の参入障壁になっていた。

だから、われわれは装置設計を変えてでも「合わせましょう」と決断した。ASML機と同じマスクを使えるようにし、さらにASML機が置いてあったスペースにそのまま入るサイズにする。

――競合と同じ土俵に乗ることで、顧客があえてニコンを選ぶ理由は何でしょうか。

互換性がないというマイナスを解消すれば、その先にある生産性（スループット）と価格で勝負できる。顧客からは長年、「ASMLの一社依存はリスクだ」という切実な声を聞かされてきた。

ASMLへの依存度を下げたい、あるいはコストを抑えたいと考えている顧客がいる。（新型装置を）共同開発しているパートナーを含め、多くの顧客が「マイナス（互換性のなさ）さえ消してくれれば、価格と生産性でニコンを選びたい」と言ってくれているのは確かだ。「がんばってくれないか、待っているよ」という声を世界中から受けている。