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キヤノン独走の“後工程”露光装置が「先端パッケージ」で脚光→ニコンとASMLが挑戦状、ウシオやSCREENも続々参戦

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キヤノンは清原工業団地(栃木県)で半導体露光装置の新工場を建設中(記者撮影)

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黄色がシンボルマークの車両「宇都宮ライトレール」が走る、線路脇の広大な敷地――。栃木県宇都宮市の清原工業団地で、キヤノンの半導体露光装置の新工場建設が進んでいる。

380億円を投じて2023年12月に着工し、2025年度下期の稼働を予定する。新工場は既存工場の向かいに位置し、完成すれば露光装置の製造能力は倍増する見込みである。

半導体の露光装置市場で、かつてキヤノンやニコンといった日本勢は圧倒的な存在感を誇っていた。が、2010年代に入ると状況は一変。最先端の半導体微細加工に使われる「EUV露光装置」では、オランダのASMLが市場を独占。キヤノンとニコンはASMLを追随できずにいる。

「旧来型」が爆発的に伸びた

そんな状況で、キヤノンが巨費を投じて露光装置の製造能力を倍増させるのにはワケがある。この1年でキヤノンが手がける「旧来型」とされていた露光装置が再び脚光を浴びつつあるのだ。

「年10~15台程度だった装置販売が、2024年は5〜6倍と爆発的に伸びた」

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