オランダ｢半導体関連の対中輸出規制｣が始動 ASMLの先端露光システムの出荷が不可能に

2024年より対中輸出ができなくなる露光システム「TWINSCAN NXT:2000i」（ASMLのウェブサイトより）

オランダの先端半導体製造装置の対中輸出規制が始動した。同国政府の新規制が9月1日（現地時間）に発効したのを受け、オランダに本社を置く世界有数の半導体製造装置メーカー、ASMLは、2024年以降、DUV（深紫外線）を使った先端的な一部露光システムの対中輸出ができなくなるとの見通しを明らかにした。

半導体露光装置に使う光源は波長の長いものから順にUV（紫外線）、DUV、EUV（極端紫外線）に分けられ、波長が短いほど解像度が高く線幅の狭い半導体回路を焼き付けられる。回路線幅7nm（ナノメートル）以下の高微細度半導体の量産プロセスはEUVでしか実現できない。今回、ASMLはDUVを使った露光システムに関しても、同社製の「TWINSCAN NXT:2000i」とその後継基幹システムの中国への輸出許可を2024年以降は原則取得できなくなると発表した。

ASML、業績への影響否定

新規制の下でも、2023年末までに限ればASMLは、顧客と契約済みの上記露光システムの出荷が可能だ。顧客側も2024年1月1日以降、同社が、これら設備の対中輸出許可を原則取得できなくなることを認識しているという。ASMLは今回の輸出規制が同社の2023年の業績予想及び長期見通しに及ぼす影響は実質的にないとかねて表明してきた。