――30年の目標としていた売上高1兆円を、今年中に達成する見込みです。想定を超える急成長の要因は何ですか。
半導体製造装置の牽引が大きかった。この業界の変化は速く、市場の拡大後に動いても間に合わない。増産対応と新技術、両面での先行投資が必須だ。当社はエネルギーやインフラなど、安定して稼げるビジネスも有する。リスク分散と安定したキャッシュフローを土台に、事前の備えを進められた。
半導体関連が異次元の成長なのであまり目立たないが、ほかの事業も結構な割合で伸びている。全体として、稼ぐ力は着実に上がっている。それぞれの分野でコストダウンや効率化、必要な投資を積み重ねてきた成果だ。
現在の目標は35年に売上高2兆円。実現の蓋然性は高いと考えている。「もっと早く達成できるのでは」と言う投資家もいるぐらいだ。ただ、ベンチマークは海外の競合メーカー。当社の歴史上ではかつてない急成長中だが、世界にはまだ上がいる。われわれも目線を一段高めねばならない。
挑戦できるありがたみを実感
――半導体ウェハーを削るCMP（化学機械研磨）装置では、世界シェア1位を目指すと公言しています。
半導体の積層・微細化が進むほど、ウェハーを平らにするプロセスは重要になる。（先端半導体向けは）当社の得意とする領域だ。技術的な背景は当然として、それをどうソリューションに結び付けるか。顧客の中に入り込み、期待に応え続けている。決して諦めずに泥くさくやり通す。創業の精神である「熱と誠」が強みになっている。
そもそもCMP装置が泥くさい機械だ。ドロドロした研磨液を使って、ゴリゴリと削るのだから。あれがクリーンルームの中に入っていることは奇跡。それを可能にしたのが当社の技術力だ。提供できる価値を増やすことで、プライスにこだわり、利益率も引き上げていきたい。
――会社の規模が急拡大する中で、内部にひずみは生じませんか。
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