──最先端半導体の製造に欠かせないEUV(極端紫外線)向けのマスク検査装置で市場を独占しています。
EUV露光装置はオランダのASMLが長年開発してきたが性能がなかなか業界のニーズに合うところまで改善せず、量産用途で使えるのか、業界では半信半疑だった。本当に賭けのようなものだったが、それまで国内外の関連企業が参加しNEDOがサポートしていた研究開発コンソーシアムでの技術開発も生き、製品化につなげられた。
──将来的に競合が出てくる可能性はありますか。
競合はまだ実際の製品を出せていない。われわれはすでに装置を納入してフィードバックを受け、改善を続けている。より検査感度の高い次世代機も開発中だ。この数年の差は大きい。

